ОБОРУДОВАНИЕ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ

ИМПЛАЗ 1000 - установка ионно-плазменного азотирования б/у, год выпуска - 2006. Краткая характеристика: базовый вакуум, не более - 5 Па; рабочее давление - 25...1000 Па; максимальная потребляемая мощность установки, не более - 35 кВт; мощность блока питания - 25 кВт; максимальный ток разряда - 50 А; частота выходных импульсов - 0...40 кГц; диапазон регулирования скважности - 0,2...1; подача рабочих газов (азот, метан, аргон,водород) с точностью поддержания заданного расхода, не более - 1,2 %; суммарный расход газов, не более - 0,136 куб.м./час; рабочий объем камеры Ø 800*970 мм; состояние - комплектное, с запуском.

ВУ-2М - установка вакуумного напыления б/у. Краткая характеристика: количество резистивных испарителей - 1; количество электронно-лучевых испарителей - 2; размер камеры: диаметр - 700 мм, высота - 776 мм

ВУ-1Б - установка вакуумного напыления б/у, год выпуска - 1984. Краткая характеристика: давление в камере при одновременном нагреве ее до 3200 С и при охлаждении всех ловушек жидким азотом - 4*10-4 Па; время достижения давления 4*10-4Па - не более 30 мин; регулируемая температура нагрева в камере - 100...320 град; количество резистивных испарителей - 2; количество электронно-лучевых испарителей - 1; вместимость деталей диаметром 40...70 мм - 70...6 шт.; напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки на холостом ходу - 2175± 20%...4350± 20% В; максимальный ток тлеющего разряда ионной очистки - не более 0,4 А; максимально допустимый ток резистивного испарителя при напряжении на трансформаторах 12 / 24 В - не более 300 / 150 А; максимальный ток электронно-лучевого испарителя - 480±20 мА; состояние - комплектное.